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/ detailed description
電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種:
1、采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合制備電子工業(yè)超純水的方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式,這是一種制取超純水的新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟,發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸嘟橘|(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

天宇純水設(shè)備設(shè)計圖(部分展示):

超純水水質(zhì)參考標準:


A:需要用戶注意的是,分析數(shù)據(jù)通常依賴于儀器和技術(shù)。因此,表1的數(shù)字只是基線。每當半導體行業(yè)開發(fā)新的線寬時,應對此表進行修訂。
B:類型E-1.3中顯示的值是將國際半導體技術(shù)發(fā)展藍圖中己知污染物的風險因素與當前半導體加工中的相關(guān)線寬的生產(chǎn)制程進行校準的結(jié)果,在某些情況下這些值可能會與類型E-1.2中的值不同。用戶如果對E-1.2型水使用更高數(shù)值,可以放心使用。
除電阻率外,所有值均等于或小于。
C:硼僅作為監(jiān)測離子交換床的操作參數(shù)進行監(jiān)測。
備注:以上數(shù)據(jù)根據(jù)英文版ASTM D 5127-2018翻譯而成,如有偏差請以英文版原文為準。
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